Anlage zur selektiven, direkten und hochaufgelösten Belichtung von Fotolack mittels Elektronenstrahl
Halbautomatisches Maskenjustier- und Doppelseitenbelichtungssystem zur Kontakt- und Proximitybelichtung von Fotolack
nlage zur Strukturierung von Fotolack mittels UV-Nanoimprint-Lithographie (Foto:S.E.T.)
Luftgelagerter, schwingungsgedäpfter Probentisch und Stempelhalter der Nanoimprint-Anlage während der Aushärtung mittels ultraviolettem Licht (Foto:S.E.T.)
Vollautomatische Belackungsanlage zur Aufbringung und Aushärtung von Fotolack
Reinraumeinrichtung zum manuellen Aufbringung, Ausheizen und Entwickeln von Fotolack (links), Lichtmikroskop zur Prozesskontrolle (rechts)
